통상적으로 한국특허는 출원을 실시하고 빠르면 1년에서 부터 1년 6개월 정도의 심사기한이 소요가 됩니다.
이를 더 빠르게 등록을 받고자 한다면 우선심사를 신청하시면 5개월 정도의 시점에서 심사에 대한 결과를 받게 됨을 알려 드립니다.
미국의 경우에도 한국과 비슷하게 심시기한이 소요된다고 보시면 됩니다.'
따라서, 한국과 미국에 빠르게 등록을 원하시면 한국에 출원을 먼저하고, 우선심사를 통하여 5개월 정도에 등록결정을 받은 후에 한국에 출원된 사항을 근거로 하여 미국에 하이웨이심사제도를 통하여 출원을 실시하면 미국에서 심사를 받지 않고 바로 한국의 등록된 상황을 근거로 하여 등록이 이루어질 수 있게 됨을 알려 드립니다.
이렇게 하는 경우 한국에서 출원하여 미국등록까지 1년이내에 모든 작업을 마칠 수가 있음을 알려 드립니다.
특허는 출원중인 상태에는 그 기술에 대하여 보호를 받을 수가 없습니다.
등록을 실시하여 민사적, 형사적인 조치를 취할 수가 있습니다.
단지, 출원중인 경우에는 공개가 된 상태에서 본 상품의 침해자에게 경고장을 발송하여 만일 등록이 이루어지는 경우에는 경고시의 침해까지 손해배상들의 법적인 책임을 묻겠다는 임시보호권이 발생할 뿐입니다.
만일 출원중인 상태에서 다른 사람이 자신의 기술을 침해하고 있다고 한다면 이를 토대로 하여 우선심사를 청구하여 빠른 심사결과를 받을 수 있음을 알려 드립니다.
상기 내용에 대하여 궁금한 사항이나 추가적인 사항이 있으면 다시 질문 하시기 바랍니다.
김수천 대표 (02-501-3106(101)) / boss@dowon.com |
디렉토리 
변리사와 무료상담 
내용보기
